简介：

OTF-1200X-50-4CLV-PE 是一款滑动式双温区PECVD 管式炉系统系统可用于生长石墨烯、二硫化钼等二维材料。加热和冷却速率最大可达100 ^oC/min。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s，是低成本快速热处理的理想炉子。
系统配置：

此设备具备高度模块化，整套系统需包含双温区滑轨炉，等离子射频电源，真空系统，4路质子流量计。

技术参数：

最高工作温度：1200 ^oC (<1 hour)

连续工作温度：1100 ^oC

最大升温速率： <= 20 ^oC /min

炉管尺寸：50 OD x 42 ID x 1800L

加热区：440 mm

输出功率:  5 -500W    ± 1% 

射频频率:  13.56 MHz    ±0.005%

反射功率:  最大 100W

MFC 1范围:  0~100 sccm

MFC 2和3:   0~200 sccm 

MFC 4范围:  0~500 sccm